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国产22纳米光刻机治不了我们的芯病

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来源: 作者: 2019-05-16 21:06:08

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11月29日,中科院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。消息传着传着,就成了谣言——《国产光刻机伟大突破,国产芯片白菜化在即》《突破荷兰技术封锁,弯道超车》《利害了我的国,新式光刻机将打破“芯片荒”》…… 笔者正好去中科院光电所旁听此次验收会,写了报道,还算熟悉,无法苟同一些漫无边际的瞎扯。 中科院研制的这种光刻机不能(像一些媒说的)用来光刻CPU。它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率,用于一些特殊制造场景,很经济。 先解释下:光刻机不光是制造芯片用。一张平面(不论硅片还是什么材料)想刻出繁复的图案,都可以用光刻——就像照相,图像投在感光底片上,蚀掉一部分。半个多世纪前,美国人用这个原理“印刷”电路,从而有了大规模集成电路——芯片。 为了节能和省硅料,芯片越做越小,逼得光刻机越做越极端。线条细到一定程度,投影就模糊了。要清晰投影,线条粗细不能低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源,好刻10纳米以下的线条。 但稳定的、大功率的极紫外光源很难造,一个得3000万元人民币。要求工作环境严苛,配合的光学和机械部件又极端精密,所以荷兰的ASML公司独家垄断极紫外光刻机,创造了“一台卖一亿美金”的神话。 十几年前,国际上开始对表面等离子体(surface plasma,SP)光刻法感兴趣。中科院光电所从2003年开始研究,是较早出成果的一个团队。所谓SP,光电所的科学家杨勇向笔者解释:拿一块金属片和非金属片密切接触,界面上有一些乱蹦的电子;光投影在金属上,这些电子就有序地震荡,产生波长几十纳米的电磁波,可用来光刻。 但这类电磁波很弱,所以光刻胶得凑近了,才能刻出来。且加工精度与ASML的光刻机没法比。刻几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的,最少以现在的技术不能。 验收会上也有问:该光刻设备能不能刻芯片,打破国外垄断?萝卜再好也得吃明白 当心身体吃不消
光电所专家回答说,用于芯片需要攻克一系列技术难题,距离还很遥远。 总之,中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事,说前者弯道超车,就好像说中国出了个竞走名将要超出博尔特。 各家媒体第一时间报出的信息,就我看到的还算中规中矩。但后来媒添枝与爱情无缘的三个星座
加叶,搞到离谱。有些传播者为吸引眼球、赚钱,最爱制造“自嗨文”和“吓尿体”。听到国产科技成就先往大里吹,驴吹成马,马吹成骆驼,好卖个骆驼价。 这种“科技报道”是满足虚荣心的伪。行家听了眉头1紧,避之大吉。也难怪许多科学家怕上。 (《科技》12月3日)

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